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Horno de tubo a 1200 ° C con mecanismo de desplazamiento interno para hpcvd

  • Model Number:

    TMAX-1200X-S-HPCVD
  • Delivery Time:

    20 days
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DESCRIPTION

Horno de tubo a 1200 ° C con mecanismo de desplazamiento interno para hpcvd



tmax-1200x-s-hpcvd es una división compacta de 2 " Horno de tubos con sistema interno de desplazamiento de muestras dentro del tubo de procesamiento. esto permite la posición & amp; control de temperatura de la etapa de muestra o Crisol mediante controlador digital de pantalla táctil. Está diseñado para multifuncionales. Procesamiento térmico rápido, como deposición fisicoquímica híbrida (hpcvd), rápido evaporación térmica (rte), y también bridgman horizontal crecimiento cristalino (hdc) bajo diferentes ambientes para nueva generación. investigación de cristal


presupuesto:

horno de tubo dividido

  • 208 - 240 vac, 50 / 60hz, 1.2 kw max. el consumo de energía
  • Temperatura de trabajo: 1100 ° c continua y 1200 ° c max.
  • Tubo de cuarzo de 2 "(50 mm o.d x 44 mm i.d x 450 mm l) con        Bridas selladas al vacío.
  • optioanl: puede elegir el horno de tubo de doble zona en la siguiente imagen        justo a un costo adicional para crear un gradiente térmico más alto o una constante más prolongada        zona de temperatura

- Horno de dos zonas.

control de temperatura

  • Control automático pid mediante relé de estado sólido con 30 pasos.        programable
  • Protección contra fallas de termopar y temperatura excesiva incorporada
  • +/- precisión 1 ° c
  • pareja termica tipo k
  • longitud de la zona de calentamiento: 200mm (8 ")
  • Zona de temperatura constante: 60 mm (+/- 1 ° c @        1000 ° c)

sellado al vacío

  • Brida de sujeción rápida de 2 "con conexiones de 1/4 '', manómetro de vacío        así como la válvula de aguja en el lado derecho
  • la brida derecha está conectada a un fuelle de acero inoxidable que        Es estirable hasta 150 mm.
  • Brida izquierda con orificio de vacío kf25 de sujeción rápida y 1/4 '' barb        válvula de ventilación
  • max. nivel de vacío: 10e-2 torr por bomba mecánica y 10-e5 por        turbopump

viaje interno   mecanismo      &amperio;
panel de control de plc

  • una pareja térmica de tipo k de 1/4 "de diámetro x 24 '' de largo es        insertado a través de la brida derecha para soportar un bote de mini crisol        en la camara
  • Un motor paso a paso puede conducir el crisol dentro del tubo desde el        Centro de calentamiento en el extremo derecho del horno, 100 mm max.
  • panel de control de pantalla táctil permite la configuración de la distancia de viaje y        indicador de temperatura de la posición del crisol
  • La velocidad de desplazamiento es constante a 180 mm / min. ( velocidad variable        el control está disponible bajo petición a un costo adicional)
  • se instala un bote mini crisol de 50x20x20mm (~ 20ml) en un        pareja térmica .
  • soporte de muestra o soporte de grafito plano para sustrato        la oblea está disponible a pedido, la tarifa de personalización adicional        aplicar.

max. calefacción y amp; velocidad de enfriamiento

El máximo calentamiento y enfriamiento.   La tasa se puede lograr moviendo la muestra a la zona caliente precalentada y moviendo la   muestra fuera de la zona caliente. La rampa / tasa de enfriamiento típica se encuentra en   abajo:

calefacción     tarifa:

10 ° c / seg (150 ° c -     250 ° c);

7 ° c / seg (250 ° c -     350 ° c);

4 ° c / seg (350 ° c -     500 ° C);

3 ° c / seg (500 ° c -     550 ° c);

2 ° c / seg (550 ° c -     650 ° c);
1 ° c / seg (650 ° c - 800 ° c);
0,5 ° c / s (800 ° c - 1000 ° c);

velocidad de enfriamiento:

10 ° c / s (950 ° c - 900 ° c);

7 ° c / s (900 ° c - 850 ° c);

4 ° c / seg (850 ° c - 750 ° c);

2 ° c / seg (750 ° c - 600 ° c);
1,5 ° c / s (600 ° c - 500 ° c);
1 ° c / seg (500 ° c - 400 ° c);
0,5 ° c / s (400 ° c - 300 ° c);



partes opcionales

  • es posible que necesite una válvula de ángulo recto y amp; fuelles para conectar        una bomba de vacío (haga clic en la 1ª y 2ª fotos para ordenar)
  • El indicador digital anticorrosivo de hasta 10e-5 torr es opcional        para aplicación de cvd (foto 3)
  • puede solicitar un sistema de suministro de gas multicanal para dvd o cvd        operación (foto 4)

dimensiones

garantía

Dos años de garantía limitada.   con soporte de por vida (las piezas consumibles, como los tubos y las juntas   no cubierto por la garantía)

portátil, software y amp; Wifi   control (opcional)

  • Nuevo portátil con Microsoft Windows 10 y Microsoft Office 2013.        (30 días de prueba gratuita) para uso inmediato.
  • sistema de control de temperatura basado en Labview) permite al usuario editar        perfil de temperatura, gestión de recetas de tratamiento térmico, registro y datos de parcelas        Para hornos mti.
  • Un control remoto inalámbrico proporciona hasta 300 metros de funcionamiento.        distancia.
  • Las características anteriores están disponibles bajo petición a un costo adicional (hasta        $ 1,000). Por favor contáctenos para más información.
  • Nota: el software es único        Compatible con el controlador de temperatura yudian de mti.



conformidad

  • ce certificado
  • todos los componentes eléctricos (& gt; 24v) son ul / met /        certificado csa
  • el horno esta listo para pasar        tuv (ul61010) o csa certificación a un costo adicional. Por favor


advertencia


  • Los hornos de tubo con tubos de cuarzo están diseñados para usarse bajo vacío        y baja presión & lt; 0.2 bares / 3 psi / 0.02 mpa
  • atención: un regulador de presión de dos etapas debe ser        instalado en el cilindro de gas para limitar la presión a menos de 3 psi para        operación segura.
  • Definición de límite de vacío para todos los hornos de tubo de cuarzo: * vacío        Las presiones solo se pueden utilizar de forma segura hasta 1000 ° C.

notas de aplicación

esta multifuncional   El horno es adecuado para las aplicaciones a continuación:

  • rte : crisol cargado de evaporación        El material se coloca en el centro del horno, mueva el soporte de la muestra.        a una posición aguas abajo con la temperatura adecuada donde el        la deposición se lleva a cabo.
  • hpcvd configuración similar a        rte, también introducimos gas reactivo para mezclar con vapor de evaporación y        hacer deposición
  • crecimiento de cristal bridgman horizontal carga el material y la semilla en un crisol y colócalo en        El centro del horno. mover el crisol a la velocidad deseada para        Crecen monocristales bajo gradiente térmico adecuado.
  • Si tiene alguna pregunta y sugerencia, por favor.        contáctenos antes de comprar
  • Después del cvd, el grafeno debe ser transferido desde el catalizador de metal.        a otro sustrato para la mayoría de las aplicaciones. usando el        Cinta de transferencia de grafeno, el residuo puede ser bajo.
  • para horizontal cristalización direccional (hdc),        Puede utilizar un alimentador de gas como se muestra en la siguiente imagen.


1200°C HPCVD Tube Furnace





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1 paquete estándar exportado: protección anticolisión interna, embalaje de caja de madera de exportación externa.

2 envío por expreso, por aire, por mar según los requisitos de clientes para encontrar la manera más conveniente.

3 responsables del daño durante el proceso de envío, cambiará la parte del daño por usted de forma gratuita.



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